鍍膜波長(zhǎng)范圍：
193nm~11μm

先進(jìn)的鍍膜設(shè)施：

公司擁有30+種類(lèi)齊全、性能先進(jìn)的全套物理氣相沉積鍍膜設(shè)施（從日本、美國(guó)和德國(guó)進(jìn)口）。包括離子輔助電子槍（EB-IAD），離子濺射（IBS），磁控濺射（MS）等鍍膜機(jī)器。

領(lǐng)先的鍍膜開(kāi)發(fā)能力：

公司擁有業(yè)界優(yōu)秀的鍍膜設(shè)計(jì)和工藝團(tuán)隊(duì)，

開(kāi)發(fā)出在各種不同基片上（光學(xué)玻璃、光學(xué)晶體、Si、Ge等）鍍各種功能用途膜（AR， HR， PR， PBS， NPBS，ITO， 金屬膜等）的鍍膜生產(chǎn)工藝，支持單波長(zhǎng)和多波長(zhǎng)濾光膜

可以設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)出種類(lèi)齊全的各種鍍膜產(chǎn)品，包括：

1. 光通訊用的各種濾光片（LWDM，CWDM， XGPONs )

2. 高功率激光鍍膜

3. 生物醫(yī)療用濾光片